稀土抛光粉的历史由来你知道多少呢？稀土抛光粉开发的历史可追溯到世界大战，随着稀土工业的发展，于二十世纪 30 时代，首先在欧洲出现了用稀土氧化物作抛光粉来抛光玻璃。在第二次世界大战中，一个在伊利诺斯州罗克福 德的 W F 和 Barnes J 公司工作的雇员，于 1943 年提出了一种叫做巴林士粉（Barnesite ）的稀土氧化物抛光粉，这种抛光粉很快在抛光精细光学仪器方面获得成功。美国及加拿大率先使用以氧 化铈为主成分的稀土抛光粉，用于高射炮的瞄准镜等精细军用机器的研磨，取代了氧化铁抛光粉，稀土抛光粉同氧化铁相比，抛光粉速度提高数倍，作业时污染少，抛光质量高，正是因为稀土抛光粉 的开发，使玻璃的研磨表面精度得到了很大程度的改善，从而使稀土抛光粉在世界上被遍及的利用。
我国抛光粉稀土资源优势 我国稀土资源相当丰厚，有内蒙古白云鄂博混合型稀土精矿，山东微山和四川冕宁的氟碳铈矿精矿，这些矿均以轻稀土为主，且CeO2/REO的含量为48～50％,无论精矿还是将精矿加工别离后的稀土化 合物都可用来制作稀土抛光粉。以中重稀土为首要的南方离子矿别离后的轻稀土的化合物，也是稀土抛光粉的质料之一。这是我国发展稀土抛光粉的物质基础和优势。
稀土抛光粉
稀土抛光粉的品种 稀土抛光粉的品种首要区别，目前有两种：
1、按稀土抛光粉中CeO2量来区分
2、以稀土抛光粉的巨细及粒度散布来区分
另外，稀土抛光粉也可以根据其添加剂的不同品种来区分。
按稀土抛光粉中CeO2含量来区分 因为稀土抛光粉首要成份是CeO2，根据CeO2的含量凹凸状况，可区分为：高、中、低铈三种稀土抛光粉。
高铈系稀土抛光粉 首要目标 : 产品中w(REO)=99%，w(CeO2)=99%; 稀土回收率约 95%；均匀粒经 1µm～ 6µm( 或粒度为 200 目～ 300 目 ) ，晶形无缺。该产品适用于高速抛光。这种高铈抛光粉早代替了古典抛光 的氧化铁粉（红粉）。
中铈系稀土抛光粉 首要目标 : 产品中w(REO)=90% ， w(CeO2) =80% ～ 85% ; 稀土回收率约 95% ; 均匀粒度 0.4µm～ 1.3µm 。该产品适用于高速抛光，比高的铈稀土抛光粉进行高速抛光的功能更为优良。
低铈系稀土抛光粉 首要目标 : 产品中w(REO)=85% ～ 90% ， w(CeO2)=48% ～ 50%; 稀土回收率约 95%; 均匀粒径0.5µm～ 1.5µm( 或粒度 320 目～ 400 目 ) 。该产品适合于光学玻璃等的高速抛光之用。 另外，用混合型的氟碳铈矿高品位稀土精矿 (w(REO)≥60% ， w(CeO2)≥48%) 为质料，直接生产初级铈系稀土抛光粉产品的首要目标 : 产品中 w(REO)≥95% ， w(CeO2)≥50%;稀土回收率≥95%; 产 品粒度为 1.5µ ｍ～ 2.5µm。该产品适合于眼镜片、电视机显象管的高速抛光之用。
还有可以以稀土抛光粉的巨细及粒度散布来区分 稀土抛光粉的粒度及粒度散布对抛光粉功能有重要影响。根据抛光粉的颗粒粒径巨细和散布等区分红不同等级的粗粉和细粉。颗粒大的抛光粉磨削效率高，颗粒小的抛光粉可以更好加工表面高品质产品。据了解，稀土抛光粉颗粒尺度约为4μm 的抛光粉磨削速度大。 稀土抛光粉属于超细粉体，国际上一般将超细粉体分3种：纳米级 (1nm ～ 100nm); 亚微米级 ( 100nm ～ 1μ m ) ; 微米级 ( 1μm ～ 100μ m ) ，据此分类办法，稀土抛光粉可以分为：纳米级 稀土抛光粉、亚微米级稀土抛光粉及微米级稀土抛光粉 3 类，一般我们使用的稀土抛光粉一般为微米级，其粒度散布在 1μ m ～ 10μ m之间。
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